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(HE-WDN2-72)真空充氮烤箱的優勢

更新時間:2024-08-14   點擊次數:691次

真空充氮烤箱適用于光電、硅晶片、電子芯片、電池、線路板、電子電器、金屬加工、制藥等各行業作無氧真空快速干燥、退火等高溫處理,可充惰性氣體防止產品氧化。深受生產線、實驗室及科研單位喜愛。其設計原理與廣泛的應用場景,不僅極大地提升了產品加工的質量與效率,還推動了相關行業的技術進步與產業升級。本文將深入探討真空充氮烤箱的工作原理、技術特點、應用領域,技術參數及其帶來的顯著優勢。

真空充氮烤箱-HE-WD1.jpg

 工作原理與技術特點

真空充氮烤箱的核心在于其能夠創造并維持一個高度真空且充滿惰性氣體(如氮氣)的環境。在這一環境下,通過精確的溫控系統對內部進行加熱,實現對物料的高效、均勻加熱處理。這一過程有效隔絕了空氣中的氧氣、水分等有害因素,從而避免了產品表面的氧化、腐蝕以及內部結構的破壞,確保了產品的純凈度與穩定性。

技術特點主要包括:

1. 高度真空環境:通過先進的真空泵系統,快速將腔體內部抽低的壓力水平,有效去除殘留氣體,為無氧處理提供基礎條件。
2. 惰性氣體保護:在真空狀態下充入氮氣等惰性氣體,形成保護層,進一步防止產品氧化,提升加工品質。
3. 精確溫控:采用先進的PID溫控算法,結合高精度傳感器,實現對加熱溫度的精確控制與調節,確保處理過程的一致性與穩定性。
4. 高效加熱:利用遠紅外加熱元件或熱風循環系統,實現腔體內溫度的快速均勻分布,縮短處理時間,提高生產效率。
5. 智能化操作:集成觸摸屏控制系統,操作簡便直觀,支持多種工藝參數預設與自動運行,提高生產自動化水平。

 應用領域與優勢

光電行業:在LED芯片、光電子器件等生產過程中,真空充氮烤箱能夠有效去除表面污染物,減少光衰,提高發光效率與穩定性。

硅晶片與電子芯片:對于精密的半導體材料,真空充氮處理可避免氧化導致的性能下降,保障芯片的高純度與可靠性。

電池制造:在鋰離子電池等新型能源材料的干燥與熱處理中,該設備能顯著減少水分殘留,提高電池循環壽命與安全性能。

線路板與電子電器:防止PCB板、電子元器件等在高溫處理過程中的氧化與腐蝕,提升產品良率與使用壽命。

金屬加工:在金屬退火、淬火等熱處理工藝中,真空充氮環境有助于消除應力、細化晶粒,提升材料性能。

制藥行業:在藥物干燥、滅菌等過程中,確保產品無菌、無污染,保障藥品質量與安全。

優勢顯著:

 提升產品品質:通過無氧真空處理,有效防止產品氧化、腐蝕,顯著提升產品表面光潔度與內在質量。
 提高生產效率:精確的溫控與高效的加熱系統,縮短處理時間,加快生產周期。
 降低能耗成本:優化的加熱設計與智能控制系統,實現能源的利用,降低生產成本。
 增強環保效益:減少有害物質的排放,符合綠色生產要求,助力企業可持續發展。

技術參數

規格型號: HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000

內箱尺寸(cm) 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100

外形尺寸(cm): 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188

總功率: 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW

使用電源: AC 單相 三線 220V 50HZ AC 三相 五線 380V 50HZ

溫度偏差: ±3% ±5% ±8%

真空泵: 4升 8升

溫度范圍(選擇)

 RT+10℃~200

□ RT+10℃~250℃

□ RT+20℃~300℃

真空度范圍: 0-100KPa

控制方式: 按鍵式控制或PLC觸摸屏控制

結構: 一體式結構(內置真空泵)或分體式(外置真空泵)

內箱材質: SUS304#不銹鋼

外箱材質: SECC鋼板高級烤漆處理

充氮氣裝置: 1)氮氣壓力范圍:34Kg左右;

2)流量計:量程為10L/min-100Lmin

3)氣管配置:∮8mm氣管快插口;

4)充氮控制方式:采用時間自動控制或手動控制;

5)排氣閥:充氮氣的同時打開排氣閥,防止箱內高壓;

6)氮氣:氮氣源用戶自備。



 結語

綜上所述,真空充氮烤箱以其技術優勢與廣泛的應用領域,在現代工業與科研中發揮著不可替代的作用。隨著科技的不斷進步與產業結構的持續優化,真空充氮烤箱必將迎來更加廣闊的發展前景,為各行業帶來更多的創新機遇與實用價值。對于生產線、實驗室及科研單位而言,掌握并有效利用這一先進設備,無疑將成為提升競爭力、推動行業進步的重要力量。

 





粵公網安備 44190002002313號

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